文献类型：期刊文章

作　　者：朱军亮[1] 王更柱[2] 解志文[2,3] 陈添[3] 宋晓航[4] 高旭[2] 于晓光[2] 宋华[2]

机构地区：[1]重庆南开中学,重庆400030 [2]辽宁科技大学,辽宁鞍山114051 [3]中国科学院重庆绿色智能技术研究院,重庆401122 [4]上海航天设备制造总厂,上海200245

出　　处：《表面技术》

基　　金：国家自然科学基金(51401201);中国科学院西部博士项目(Y32Z010F10);上海航天技术研究院基金;重庆市前沿与应用基础项目(cstc2014jcyj A50009)~~

年　　份：2015

卷　　号：44

期　　号：4

起止页码：54-59

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2014、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD_E2015_2016、EI、JST、RCCSE、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：目的采用多元等离子体注入与沉积(MPIIID)技术制备Ti-Al-N涂层,系统研究涂层的微观组织结构、力学性能与摩擦学特性。方法借助XRD,XPS,SEM和TEM等,观察分析Ti-Al-N涂层的微观组织结构与物相组成,采用纳米压入试验仪、布氏硬度试验仪、摩擦磨损试验仪和激光共聚焦显微镜等测试分析Ti-Al-N涂层的力学性能、膜基结合力和摩擦磨损性能。结果 Ti-Al-N涂层表现出较高的膜-基结合强度。Al元素掺杂诱发Ti-Al-N涂层发生严重晶格畸变。当Al原子数分数为6.18%时,Ti-Al-N涂层以c-TiAlN相结构为主,表现出超高硬度(达到39.83 GPa);随着Al元素含量增加,涂层中的软质h-TiAlN相结构增多,硬度随之下降。摩擦试验结果表明,低Al含量Ti-Al-N涂层的抗磨损能力良好,其主要磨损机制为磨粒磨损;高Al含量Ti-Al-N涂层的抗磨损能力较差,其主要磨损机制倾向粘着磨损。结论 MPIIID技术成功实现了Ti-Al-N涂层的低温制备与成分调控,低Al含量的Ti-Al-N涂层具有优良的力学性能和优异的抗磨损能力。

关 键 词：多元等离子体注入与沉积  Ti-Al-N涂层  组织结构  摩擦磨损  

分 类 号：TG174.444]