文献类型：期刊文章

作　　者：薛增辉[1] 李伟[2] 卢建富[3] 刘平[2] 马凤仓[2] 刘新宽[2] 陈小红[2] 何代华[2]

机构地区：[1]上海理工大学机械工程学院,上海200093 [2]上海理工大学材料科学与工程学院,上海200093 [3]浙江金盾链条制造有限公司,浙江诸暨311813

出　　处：《功能材料》

基　　金：国家自然科学基金资助项目(51101101);上海市自然科学基金资助项目(11ZR1424600);上海市研究生创新基金资助项目(JWCXSL1302)

年　　份：2015

卷　　号：46

期　　号：7

起止页码：7113-7117

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2014、CAS、CSCD、CSCD_E2015_2016、EI(收录号：20151900832308)、IC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：采用射频磁控溅射工艺在Si基底上制备TiSiCN纳米复合膜,固定靶材中的Ti含量,通过改变Si和C的含量比沉积得到一系列薄膜,采用X射线衍射仪(XRD)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)、X射线光电子能谱(XPS)和纳米压痕仪研究了不同Si/C含量比对TiSiCN纳米复合膜的微观结构和力学性能的影响。结果表明,Si/C含量比对TiSiCN纳米复合膜的微观结构和硬度具有显著影响,当Si/C含量比为Si2C2时制得薄膜的微观结构为晶化的界面相(SiNx+C)与其包裹的TiN纳米晶粒共格外延生长,薄膜硬度达到最高值46GPa。

关 键 词：TiSiCN  纳米复合膜 微观结构 力学性能 共格外延生长  

分 类 号：TG174.4]