文献类型：期刊文章

作　　者：郝安林[1]

机构地区：[1]安阳工学院学报编辑部,河南安阳455000

出　　处：《河南师范大学学报（自然科学版）》

基　　金：国家自然科学基金青年项目(51105002)

年　　份：2015

卷　　号：43

期　　号：1

起止页码：54-58

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2014、CAB、CAS、MR、RCCSE、WOS、ZGKJHX、ZMATH、核心刊

摘　　要：采用超高真空电子束蒸镀的方法制备了Co/Ru金属多层膜,通过透射电镜、X射线衍射分析等结构分析仪器、磁性测试手段对薄膜的、微观与局域结构及磁性进行了研究.对Co/Ru多层膜样品进行真空退火处理,研究了退火后界面的变化及其对磁性和磁电阻性能的影响.退火增加了多层膜界面与表面的粗糙程度.Co/Ru界面处的互扩散和混合程度逐渐增大,多层膜的周期性有所降低.随着退火温度的升高,负磁阻逐渐减小,同时高场下开始出现正磁阻.

关 键 词：真空退火 多层膜 磁电阻性能  

分 类 号：O484] TB383[物理学类]