文献类型：期刊文章

作　　者：杨永亮[1] 岳莉[1] 李娜[1] 唐昊龙[2]

机构地区：[1]凯里学院物理与电子工程学院,贵州凯里556011 [2]长春理工大学,吉林长春130022

出　　处：《激光与光电子学进展》

基　　金：凯里学院博士专项基金(BS201327);黔东南州科技计划(黔东南科合J字[2014]4003号);贵州省教育厅自然科学研究项目(黔教合KY字[2012]061号);贵州省科学技术基金博士基金(黔科合J字[2014]2148)

年　　份：2015

卷　　号：52

期　　号：1

起止页码：233-237

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2014、CSCD、CSCD2015_2016、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：为了改善类金刚石(DLC)薄膜的应力和热稳定性,采用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)技术,通过在原有设备上加入与流量控制器相连的双起泡器,并以氩气为运载气体,正丁烷为反应物,在硅基底上实现了以液态物质四甲基硅烷(TMS)为前驱物的Si掺杂类金刚石薄膜的沉积。硬度、应力、表面粗糙度及热稳定性的测试表明,随着运载气体流量的增加,薄膜的应力分布、表面粗糙度和热稳定性都有很大程度的改善,但也导致薄膜的硬度下降,当运载气体的流量为30 m L/min(标准状态)时,Si掺杂DLC薄膜的石墨化温度可以达到600℃以上,薄膜的应力降低为0.65 GPa,表面粗糙度降低到0.566 nm,但硬度下降为12.6 GPa。

关 键 词：薄膜  类金刚石 应力 热稳定性

分 类 号：O484]