文献类型：期刊文章

作　　者：何季麟[1,2] 张学清[3,2] 杨国启[3,2] 郑爱国[3,2]

机构地区：[1]中色(宁夏) 东方集团有限公司,宁夏石嘴山753000 [2]国家钽铌特种金属材料工程技术研究中心,宁夏石嘴山753000 [3]宁夏东方钽业股份有限公司,宁夏石嘴山753000

出　　处：《中国材料进展》

基　　金：国家科技支撑计划项目(715-005-0140);国家863计划项目(2012BAE06B03)

年　　份：2014

卷　　号：33

期　　号：9

起止页码：545-553

语　　种：中文

收录情况：CSCD、CSCD_E2013_2014、SCOPUS、ZGKJHX、普通刊

摘　　要：引述了Ta电容器与Al电容器、多层陶瓷电容器相比突出的性能与应用特征，分析了Ta电容器片式化、小型化促进电容器级Ta粉高比容化发展的新趋势，叙述了航空、航天和军工领域对高压电容器高可靠性能的需求，以及对中高压Ta粉向更高电压、更低SER方向发展的引领，回顾了电容器用高比容Ta粉、中高压Ta粉发展应用进程，介绍了经典氟钽酸钾（K2TaF7）金属Na还原法、电子束熔炼法、球磨片式化法生产的高比容Ta粉、高压Ta粉、中压（片状）Ta粉的性能、产品品级及关键技术，分析了30～80kμFV／gTa粉耐压性能影响因素，介绍了Ta粉高比容化、高压化新技术、装置、产品形貌、性能及优缺点，在此基础上提出了电容器级Ta粉高比容化、高压化创新进步的思路。

关 键 词：Ta电容器  高比容Ta粉  高压Ta粉  中压(片状)Ta粉  

分 类 号：TG146.416[材料类]