文献类型：期刊文章

作　　者：吴忠振[1,2] 田修波[2] 潘锋[1] Ricky K.Y.Fu[3] 朱剑豪[3]

机构地区：[1]北京大学深圳研究生院新材料学院,深圳518055 [2]哈尔滨工业大学,先进焊接与连接国家重点实验室,哈尔滨150001 [3]香港城市大学物理与材料科学系,中国香港九龙

出　　处：《物理学报》

基　　金：国家自然科学基金(批准号:51301004,U1330110);深圳市科技计划(批准号:SGLH20120928095706623,JCYJ20120614150338154,CXZZ20120829172325895)资助的课题~~

年　　份：2014

卷　　号：63

期　　号：18

起止页码：359-369

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2011、CAS、CSCD、CSCD2013_2014、EI(收录号：20144200103891)、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCI-EXPANDED(收录号：WOS:000342679900042)、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、ZMATH、核心刊

摘　　要：等离子体源离子注入与沉积技术作为一种可生产高结合力、高致密度涂层的真空镀膜技术,具有广阔的应用前景,尤其适用于高载荷工况下服役的功能涂层制备.该技术中金属等离子体源是关键,而现有的脉冲阴极弧源结构复杂,且由于伴随"金属液滴"而需要增加过滤装置.本文研究了另一种简单结构的金属等离子体源备选一高功率脉冲磁控溅射源(HPPMS)的放电特性,采用等离子体发射光谱仪探索了不同的耦合高压对HPPMS放电靶电流特性和等离子体特性的作用.发现耦合高压对HPPMS放电有明显的促进作用,相同靶电压下的放电强度大幅增加,相对于金属放电,耦合高压对气体放电的促进作用更加明显,但在自溅射为主的高压放电阶段对金属放电的促进作用明显增强.讨论了耦合高压对HPPMS放电的增强机制,发现耦合高压自辉光放电、耦合高压和HPPMS电压构成双向负压形成的空心阴极效应,以及耦合高压鞘层改善的双极扩散效应都对HPPMS放电的增强有明显作用.

关 键 词：高功率脉冲磁控溅射  耦合高压  放电靶电流  等离子体发射光谱

分 类 号：O539]