文献类型：期刊文章

作　　者：沈钰[1,2] 祝向荣[3]

机构地区：[1]中国科学院嘉兴轻合金技术工程中心,浙江嘉兴314006 [2]中国科学院上海微系统与信息技术研究所,上海200050 [3]上海第二工业大学,上海201209

出　　处：《轻合金加工技术》

年　　份：2014

卷　　号：42

期　　号：8

起止页码：56-61

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2011、CAS、RCCSE、核心刊

摘　　要：采用直流磁控溅射在AZ31镁合金表面分别沉积了Al膜和TiN膜。对这两种膜的表面特性进行了研究和比较。扫描电子显微镜(SEM)观察到沉积态样品的膜层是致密的。两种膜的样品在200℃温度下保温30 min热处理后,SEM观察到膜层仍旧是致密的,没有裂纹等缺陷产生。表面附着性试验表明,沉积态的膜层和镁合金基底间具有很好的附着性。纳米压痕测试结果表明,Al膜层表面和TiN膜层表面的显微硬度平均值分别为1.897 HV和23.85 HV,两者差一个数量级,TiN呈现硬质膜层的特性。还进行了模拟体液腐蚀膜层的试验,结果表明Al膜层在模拟体液中的耐腐蚀特性优于TiN膜层的。

关 键 词：镁合金 磁控溅射 Al膜  TIN膜 表面特性

分 类 号：TG174.4]