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脉冲偏压占空比对复合离子镀TiCN涂层结构和性能的影响 ( EI收录)
Effects of Duty-ratio of Pulsed Bias on the Structure and Properties of TiCN Coatings by Hybrid Ion Plating
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]天津师范大学物理与材料科学学院,天津300387
基 金:国家自然科学基金(61078059);天津师范大学学术创新推进计划(52X09038)
年 份:2014
卷 号:27
期 号:4
起止页码:100-106
语 种:中文
收录情况:AJ、BDHX、BDHX2011、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD_E2013_2014、EI、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊
摘 要:采用多弧离子镀和磁控溅射复合离子镀技术在高速钢基底上制备TiCN涂层,通过改变脉冲偏压占空比的大小获得了不同的涂层试样,利用台阶仪、X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、维氏硬度计等对涂层进行表征,研究占空比对TiCN涂层组织结构和力学性能的影响。结果表明:随着脉冲偏压占空比的增加,TiCN涂层的表面大颗粒逐渐减少,表面形貌得到改善。涂层结构中,(111)晶面的择优取向趋势明显,沉积速率和显微硬度均出现先增大后减小的趋势,且在占空比为40%时均达最大值。TiCN涂层的最高硬度为3 800HV0.025,约为基底硬度的4倍。
关 键 词:复合离子镀 脉冲偏压占空比 TiCN涂层 显微硬度
分 类 号:TG174.444]
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