文献类型：期刊文章

作　　者：梅显秀[1] 徐军[1] 马腾才[1]

机构地区：[1]三束材料改性国家重点实验室,大连理工大学大连116024

出　　处：《物理学报》

基　　金：国家自然科学基金 (批准号 :1983 5 0 3 0 )资助的课题~~

年　　份：2002

卷　　号：51

期　　号：8

起止页码：1875-1880

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2000、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号：2004057994471)、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCI-EXPANDED(收录号：WOS:000177335700043)、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、ZMATH、核心刊

摘　　要：利用强流脉冲离子束技术在Si基体上快速大面积沉积类金刚石 (DLC)薄膜 .电压为 2 5 0kV ,束流密度为2 5 0A·cm- 2 ,脉宽为 80— 10 0ns,能流密度为 5J·cm- 2 的离子束 (主要由碳离子和氢离子组成 )聚焦到石墨靶材上 ,使石墨靶材充分蒸发和电离 ,在石墨靶的法线方向的Si基体上沉积非晶的碳薄膜 .Raman谱分析显示 ,所沉积薄膜为类金刚石薄膜 .随着靶材与基体之间距离的减小 ,薄膜中sp3碳成分含量增加 ,同时硬度值也有所增大 ,并且薄膜的摩擦系数和表面粗糙度增加 .x射线光电子能谱 (XPS)分析显示薄膜中的sp3碳含量为 4 0 %左右 .由扫描电子显微镜和原子力显微镜观察得知 ,薄膜表面比较光滑 ,表面的粗糙度不大 .薄膜显微硬度在 2 0— 30GPa之间 ,薄膜的摩擦系数为 0 16— 0

关 键 词：室温 沉积  强流脉冲离子束 类金刚石薄膜 XPS Raman谱分析  

分 类 号：TN304.055]