文献类型：期刊文章

作　　者：邱东江[1] 石成儒[2] 吴惠桢[1]

机构地区：[1]浙江大学物理系,杭州310028 [2]浙江大学中心实验室,杭州310028

出　　处：《物理学报》

基　　金：浙江省自然科学基金 (批准号 :5 960 3 0 )资助的课题~~

年　　份：2002

卷　　号：51

期　　号：8

起止页码：1870-1874

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2000、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号：2004057994470)、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCI-EXPANDED(收录号：WOS:000177335700042)、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、ZMATH、核心刊

摘　　要：采用射频等离子体增强的热丝化学气相沉积 (RF HFCVD)技术在石英玻璃衬底上制备了表面光滑、晶粒致密均匀的纳米金刚石薄膜 .用扫描电子显微镜 (SEM)和台阶仪观测薄膜的表面形貌和粗糙度 ,x射线衍射 (XRD)和Raman光谱表征膜层的结构 ,并用紫外 可见 近红外光谱仪测量其光透过率 .实验结果表明 ,衬底温度、反应气压及射频功率对金刚石膜的结晶习性、表面粗糙度及光透过率均有很大程度的影响 ,其最佳值分别为 70 0℃ ,2× 133Pa和 2 0 0W .在该最佳参量下经 1h的生长即获得连续、平滑的纳米金刚石膜 ,其平均晶粒尺寸为约 2 5nm ,表面平均粗糙度仅为 5 5nm ,在近红外区的光透过率高达 90 %

关 键 词：石英衬底  高光学质量  纳米金刚石薄膜 射频等离子体增强热丝化学气相沉积  光透过率  外延生长  

分 类 号：TN304.055]