期刊文章详细信息
非平衡磁控溅射中调制磁场的作用
Effect of magnetic field on unbalanced magnetron sputtering
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]大连理工大学三束材料表面改性国家重点实验室,辽宁大连116024 [2]沈阳北宇真空机械厂,辽宁沈阳110045
年 份：2002
卷 号：39
期 号：3
起止页码：27-29
语 种：中文
收录情况：BDHX、BDHX2000、CAS、ZGKJHX、核心刊
摘 要：研究了调制磁场对于非平衡磁控溅射系统的作用 ,调制磁场可以使非平衡磁控溅射形成具有较高等离子体密度的等离子体束流 ,延伸到靶前 110 m m以上。在靶前 6 0～ 110 mm的位置上 ,收集电流密度高达 9～ 10 m A/ cm2 ,收集的电流密度比常规的磁控溅射方法高 9倍以上 ,在调制磁场作用下磁控溅射沉积铜薄膜的沉积速率可以增加到 14倍。
关 键 词：调制磁场 非平衡磁控溅射 薄膜 等离子体 镀膜工艺 调制作用
分 类 号：TB43] O539]
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