文献类型：期刊文章

作　　者：孟斐[1] 陈恒武[1] 方群[1] 朱海霖[1] 方肇伦[1]

机构地区：[1]浙江大学化学系,微分析系统研究所杭州310028

出　　处：《高等学校化学学报》

基　　金：国家自然科学基金 (批准号 :2 0 2 990 3 0;2 0 2 990 3 1)

年　　份：2002

卷　　号：23

期　　号：7

起止页码：1264-1268

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2000、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI、IC、JST、RCCSE、RSC、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：研究了紫外光化学表面改性对聚二甲基硅氧烷 (PDMS)微流控芯片的片基间粘接力及毛细管通道电渗流性能的影响 .PDMS片基经紫外光射照后 ,粘接力增强 ,可实现 PDMS芯片的永久性封合 ,同时亲水性得到改善 ,通道中的电渗流增大 .与文献报道的等离子体表面处理方法比较 ,采用紫外光表面处理 ,设备简单 ,操作方便 ,耗费少 ,是一种简单易行的聚二甲基硅氧烷芯片表面处理方法 .

关 键 词：紫外光 微流控分析系统  聚二甲基硅氧烷芯片  光化学 表面处理 微型金分析系统  毛细管电泳

分 类 号：O657.8] TN4[化学类]