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电极/溶液界面单分子吸附层的统计力学处理 Ⅲ.汞电极上水-甲醇混合溶剂化层结构
STATISTICAL MECHANICAL TREATMENT OF ADSORBED MONOLAYER AT ELECTRODE/SOLUTION INTERFACE Ⅲ The Structure of Inner Layer Formed at The Interface of Hg/(H_2O+CH_3OH) Solution
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]厦门大学化学系,厦门361005 [2]厦门大学计算中心
基 金:国家自然科学基金
年 份:1991
卷 号:7
期 号:4
起止页码:443-448
语 种:中文
收录情况:AJ、BDHX、BDHX1992、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EBSCO、IC、INSPEC、JST、PUBMED、RCCSE、RSC、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊
摘 要:按文[11]模型,对金属/(混合溶剂)溶液界面,导出单分子层混合吸附等温方程并拟合计算汞/(水+甲醇)溶液界面的内层微分电容对表面电荷密度依赖关系。结果表明,对不同组成的(H_2O+CH_3OH)混合溶剂,计算的C_1~σ曲线与实验值甚一致。而其对应的吸附等温线则表现为在汞电极上,由水-甲醇形成的溶剂化层几乎为甲醇分子复盖满。
关 键 词:电极 溶液 界面 吸附 统计力学
分 类 号:O647.311]
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