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期刊文章详细信息

电极/溶液界面单分子吸附层的统计力学处理 Ⅲ.汞电极上水-甲醇混合溶剂化层结构    

STATISTICAL MECHANICAL TREATMENT OF ADSORBED MONOLAYER AT ELECTRODE/SOLUTION INTERFACE Ⅲ The Structure of Inner Layer Formed at The Interface of Hg/(H_2O+CH_3OH) Solution

  

文献类型:期刊文章

作  者:苏文煅[1] 周绍民[1] 周小林[2]

机构地区:[1]厦门大学化学系,厦门361005 [2]厦门大学计算中心

出  处:《物理化学学报》

基  金:国家自然科学基金

年  份:1991

卷  号:7

期  号:4

起止页码:443-448

语  种:中文

收录情况:AJ、BDHX、BDHX1992、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EBSCO、IC、INSPEC、JST、PUBMED、RCCSE、RSC、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊

摘  要:按文[11]模型,对金属/(混合溶剂)溶液界面,导出单分子层混合吸附等温方程并拟合计算汞/(水+甲醇)溶液界面的内层微分电容对表面电荷密度依赖关系。结果表明,对不同组成的(H_2O+CH_3OH)混合溶剂,计算的C_1~σ曲线与实验值甚一致。而其对应的吸附等温线则表现为在汞电极上,由水-甲醇形成的溶剂化层几乎为甲醇分子复盖满。

关 键 词:电极 溶液  界面  吸附  统计力学

分 类 号:O647.311]

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同被引文献:

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