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期刊文章详细信息

多弧离子镀(Ti,Cr)N膜层工艺及性能    

Technology and Properties of (Ti,Cr)N Films Deposited by Multi-arc Ion Plating

  

文献类型:期刊文章

作  者:刘清平[1] 曲敬信[2] 潘国顺[3]

机构地区:[1]中国农业大学车辆工程学院,北京100083 [2]中国矿业大学机电工程系,北京100083 [3]清华大学摩擦学国家重点实验室,北京100084

出  处:《机械工程材料》

年  份:2002

卷  号:26

期  号:3

起止页码:20-22

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2000、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、JST、ZGKJHX、核心刊

摘  要:用多弧离子镀膜机 ,以W 6Mo5Cr4V2高速钢为基体材料 ,镀覆 (Ti,Cr)N多元膜 ,研究了多弧离子镀工艺对膜层性能的影响 ,确定了最佳镀膜工艺参数 ,探讨了多元膜层的强化机理。结果表明 :膜层硬度及膜基结合力随偏压的增大而增大 ,膜层硬度随氮分压的升高而增大 ,孔隙率随氮分压的升高而增大。 (Ti,Cr)N多元膜层强化机理主要是 :晶粒细化、固溶强化、多元素优化。

关 键 词:多弧离子镀 多元膜层  工艺  性能  表面强化  氮化钛 氧化铬

分 类 号:TG174.444]

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同被引文献:

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