文献类型：期刊文章

作　　者：满卫东[1] 汪建华[1] 王传新[1] 马志斌[1]

机构地区：[1]武汉化工学院等离子体技术与薄膜材料重点实验室

出　　处：《新型炭材料》

年　　份：2002

卷　　号：17

期　　号：1

起止页码：62-70

语　　种：中文

收录情况：AJ、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、普通刊

摘　　要：金刚石有着优异的物理化学性质 ,化学气相沉积金刚石薄膜的研究受到研究人员和工业界的广泛关注。通过评述金刚石薄膜的性质、制备方法及应用等方面的研究成果 ,着重阐述化学气相沉积金刚石薄膜技术的基本原理 ,分析了各种沉积技术的优、缺点。结合对金刚石薄膜应用的讨论 ,分析了金刚石薄膜在工业应用中存在的问题和制备技术的发展方向。分析结果表明 :MWCVD法是高速率、高质量、大面积沉积金刚石薄膜的首选方法 ;而提高金刚石的生长速度。

关 键 词：金刚石薄膜 化学气相沉积 性质  制备  应用  

分 类 号：TB43]