文献类型：期刊文章

作　　者：徐富春[1] 王水菊[1] 林秀华[2] 汤丁亮[1] 张棋河[1] 薛茹[1]

机构地区：[1]厦门大学分析测试中心 [2]厦门大学物理系,重点实验室厦门361005

出　　处：《Chinese Journal of Chemical Physics》

基　　金：福建省自然科学基金资助项目 (F990 31)~~

年　　份：2002

卷　　号：15

期　　号：1

起止页码：69-74

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2000、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、INSPEC、JST、RSC、SCI(收录号：WOS:000179285400015)、SCI-EXPANDED(收录号：WOS:000179285400015)、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：用多弧离子镀技术在不同金属基材上进行TiN镀膜实验 ,制备了TiN/Fe、TiN/Cu和TiN/Cr/Cu复合膜 .借助扫描电子显微镜 (SEM)、X射线衍射仪 (XRD)和光电子能谱 (XPS) ,研究了TiN与Fe、Cu和Cr/Cu三种不同衬底接触界面的形貌、结构及其表面特性 .SEM观察发现 ,在一定离子镀膜条件下 ,TiN涂层可与Fe、Cu和Cr/Cu金属基材形成均匀平整的接触界面 ,在铜基上TiN界面清晰 ,在Fe与Cr/Cu界面有明显的层状晶界微结晶分布 .XRD分析显示 ,Fe、Cu和Cr/Cu表面生成的薄膜都包含TiN、Ti2 N等多晶相 ,在Cr/Cu界面还包含Ti-Cr的金属间化合物 .XPS结果表明 ,表面除了TiN膜外 ,还生成TiO2 和TiOxNy 等氧化膜 .Ar+ 刻蚀 5min后 ,TiO2 消失 ,TiOxNy 减少 ,TiN则呈增加趋势 .TiN与Cr/Cu界面形成明显的Ti-Cr和Cr-Ni互扩散层 ,这有助于增强薄膜附着力 ,形成较牢固的TiN涂层 .

关 键 词：多弧离子镀 氮化钛 接触界面  表面特性 金属基材  表面处理 薄膜  

分 类 号：TG174.444]