期刊文章详细信息
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]清华大学制造工程研究所
年 份:2002
期 号:2
起止页码:5-9
语 种:中文
收录情况:普通刊
摘 要:本文将通过世界IC工艺装备的发展趋势和国内现状的分析 ,从十五“863”重大专项的角度 ,对我国的IC装备发展战略进行探讨。提出以100nm的光刻机等关键设备为战略目标 ,以自主技术创新突破和产业化为目的 ,实现我国IC装备技术和产业的跨越式发展。
关 键 词:集成电路 制造装备 光刻机 发展战略 工艺
分 类 号:F426.63]
参考文献:
正在载入数据...
二级参考文献:
正在载入数据...
耦合文献:
正在载入数据...
引证文献:
正在载入数据...
二级引证文献:
正在载入数据...
同被引文献:
正在载入数据...