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期刊文章详细信息

化学镀Ni-WP合金沉积机理初探    

Preliminary Study on the Deposition Mechanism of Electroless Ni-W-P Alloy

  

文献类型:期刊文章

作  者:俞素芬[1] 雷军[1] 范伟光[1] 吴卫[1] 张可敏[1]

机构地区:[1]吉林工学院材料工程系,长春130012

出  处:《材料保护》

年  份:2001

卷  号:34

期  号:12

起止页码:18-19

语  种:中文

收录情况:AJ、BDHX、BDHX2000、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、JST、ZGKJHX、核心刊

摘  要:通过对化学镀的Ni W P合金镀层镀态下的表面形貌特征及镀层断面组织的观察与分析 ,研究了化学镀Ni W P合金镀层的沉积机理。结果表明 ,合金原子优先在基底金属表面能量较高的划痕、蚀孔边缘处沉积。Ni W

关 键 词:化学镀 NI-W-P合金 非晶态 沉积机理  镀合金 电镀

分 类 号:TQ153]

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