文献类型：期刊文章

作　　者：雷惊雷[1] 李凌杰[2] 蔡生民[1] 张胜涛[3] 李荻[2] 杨迈之[1]

机构地区：[1]北京大学化学与分子工程学院,北京100871 [2]北京航空航天大学材料科学与工程系,北京100083 [3]重庆大学应用化学系,重庆400044

出　　处：《物理化学学报》

基　　金：国家自然科学基金(29877003);高等学校博士点专项科研基金资助项目

年　　份：2001

卷　　号：17

期　　号：12

起止页码：1107-1111

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2000、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EBSCO、IC、INSPEC、JST、PUBMED、RCCSE、RSC、SCI(收录号：WOS:000172839700010)、SCI-EXPANDED(收录号：WOS:000172839700010)、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：应用循环伏安法、Ｘ射线光电子能谱法、电化学阻抗谱法以及现场椭圆偏光法研究了在弱碱性介质中添加Ｃｌ－对铜电极腐蚀行为的影响．结果表明，Ｃｌ－的加入能加剧铜电极的腐蚀，使腐蚀电流以及现场椭圆偏振参数△的变化范围都增大１个数量级，Ｃｌ－对Ｃｕ２Ｏ的掺杂将使铜电极的表面膜变得疏松，膜的耐蚀性变差．椭圆偏光实验不仅与电化学和能谱实验的结果一致，而且还能定性地、清楚地分辨出铜电极腐蚀过程中Ｃｕ２Ｏ的生成、Ｃｌ－对Ｃｕ２Ｏ的掺杂、ＣｕＯ的生成等不同阶段；同时，利用恰当的模型还能定量地确定各个阶段铜电极表面膜的组成、厚度的变化，从而为研究铜电极的腐蚀与防护机理提供更多有用信息．

关 键 词：铜电极 循环伏安法 电化学阻抗谱 椭圆偏光法  腐蚀  防护机理  弱碱性介质  

分 类 号：O646]