期刊文章详细信息
氧化钒薄膜的结构、性能及制备技术的相关性 ( EI收录)
Relativity among structures, properties and preparation of vanadium oxides thin films
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]江苏石油化工学院功能材料实验室,江苏常州213016 [2]中国科学院上海冶金研究所信息功能材料国家重点实验室,上海200050
基 金：中国科学院上海冶金研究所离子束开放实验室资助
年 份：2001
卷 号：32
期 号：6
起止页码：572-575
语 种：中文
收录情况：BDHX、BDHX2000、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI、IC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要：氧化钒薄膜及其在微电子和光电子领域中的应用已成为国际上新颖功能材料研究的热点之一。本文综述了V2 O5和VO2 薄膜电学性能与薄膜组分和结构的相关性 。
关 键 词：氧化钒薄膜 相变 热电阻温度系数 功能材料
分 类 号：TB43] TB383
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