期刊文章详细信息
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]中国科学院微电子中心,中国科学院院士北京100029
年 份:1999
卷 号:21
期 号:4
起止页码:1-9
语 种:中文
收录情况:CSCD、CSCD_E2011_2012、JST、RCCSE、ZGKJHX、普通刊
摘 要:文章讨论了进入二十一世纪微电子科学技术所面临的诸多问题:超微细加工新技术,高电导率金属和低介电常数介质的互连技术, Si C M O S 工艺的限制以及 Ga As
关 键 词:超微细加工 铜互连 CMOS工艺 GaAs电路 集成电路
分 类 号:TN405]
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