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期刊文章详细信息

迈进二十一世纪的集成电路    

The Integrated Circuitin The 21st Century

  

文献类型:期刊文章

作  者:吴德馨[1]

机构地区:[1]中国科学院微电子中心,中国科学院院士北京100029

出  处:《世界科技研究与发展》

年  份:1999

卷  号:21

期  号:4

起止页码:1-9

语  种:中文

收录情况:CSCD、CSCD_E2011_2012、JST、RCCSE、ZGKJHX、普通刊

摘  要:文章讨论了进入二十一世纪微电子科学技术所面临的诸多问题:超微细加工新技术,高电导率金属和低介电常数介质的互连技术, Si C M O S 工艺的限制以及 Ga As

关 键 词:超微细加工  铜互连 CMOS工艺 GaAs电路  集成电路

分 类 号:TN405]

参考文献:

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二级参考文献:

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耦合文献:

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引证文献:

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二级引证文献:

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同被引文献:

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