文献类型：期刊文章

作　　者：张峰[1] 潘守甫[1] 张学军[2] 王权陡[2] 张忠玉[2]

机构地区：[1]吉林大学原子分子物理研究所,吉林长春130023 [2]长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室,吉林长春130022

出　　处：《光学技术》

基　　金：国家自然科学基金资助项目 (6960 80 0 6)

年　　份：2001

卷　　号：27

期　　号：6

起止页码：522-523

语　　种：中文

收录情况：CAS、CSCD、CSCD2011_2012、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、普通刊

摘　　要：磁流变抛光是近十年来的一种新兴的先进光学制造技术 ,它利用磁流变抛光液在梯度磁场中发生流变而形成的具有粘塑行为的柔性“小磨头”进行抛光。被抛光光学元件的材料去除是在抛光区内实现的。首先简要阐述了磁流变抛光的抛光机理 ,然后利用标准磁流变抛光液进行抛光实验。研究了磁流变抛光中几种主要工艺参数对抛光区的大小和形状以及材料去除率的影响情况。最后给出了磁流变抛光材料去除的规律。

关 键 词：磁流变抛光 抛光区  材料去除  光学制造技术  

分 类 号：TH706[仪器类]