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期刊文章详细信息

反应溅射法制备TiO_2薄膜  ( EI收录)  

INVESTIGATIONS OF TiO_2 FILMS PREPARED BY REACTIVE MAGNETRON SPUTTERING

  

文献类型:期刊文章

作  者:赵坤[1] 朱凤[1] 王莉芳[1] 孟铁军[1] 张保澄[1] 赵夔[1]

机构地区:[1]北京大学重离子研究所,北京100871

出  处:《物理学报》

基  金:中国节能投资公司资助! (批准号 :2 0 0 0 0 412 )&&

年  份:2001

卷  号:50

期  号:7

起止页码:1390-1395

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2000、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号:2004057987211)、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCI-EXPANDED(收录号:WOS:000169720600037)、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、ZMATH、核心刊

摘  要:报道了用反应溅射法制备TiO2 薄膜的实验研究 .详细研究了氧分压、基底温度和退火温度对成膜结构的影响 .制备出了具有金红石和锐钛矿晶体结构的TiO2 薄膜 .分析了金红石和锐钛矿晶体的形成条件 ,并对薄膜的表面形貌进行了测量 .

关 键 词:反应溅射 TIO2薄膜 成膜结构  表面形貌 金红石 锐钛矿晶体  

分 类 号:O614]

参考文献:

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二级参考文献:

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耦合文献:

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引证文献:

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二级引证文献:

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同被引文献:

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