文献类型：期刊文章

作　　者：王玲玲[1] 方小龙[1] 唐芳琼[2] 杨传芳[1] 刘会洲[1]

机构地区：[1]中国科学院化工冶金研究所分离科学与工程青年实验室,北京100080 [2]中国科学院感光所,北京100101

出　　处：《过程工程学报》

基　　金：国家自然科学基金资助项目!(编号:29776046)

年　　份：2001

卷　　号：1

期　　号：2

起止页码：167-172

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2000、CAS、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：利用3种不同类型的表面活性剂反胶团体系制备SiO2超细颗粒，并与传统的Stober制备方法进行了对比. 在阴离子表面活性剂AOT和非离子表面活性剂TritonX-100两类体系中，得到了单分散的SiO2超细颗粒．在AOT体系中颗粒粒径随体系水含量w。的增大而增大；而TritonX-100体系中，颗粒粒径随w。的增大而减小；在阳离子表面活性剂(如CTAB，TOMAC)体系中无法得到SiO2超细颗粒．对不同体系所得颗粒的粒径标准偏差及粒度分布进行了对比，结果表明制备粒径小于100 nm的SiO2颗粒，反胶团法明显优于Stober方法，粒径相对标准偏差较低, 而对粒径大于100 nm的颗粒，Stober方法仍不失为一种很好的制备途径．

关 键 词：二氧化硅 反胶团 超细颗粒 正硅酸乙酯 Stober方法  单分散

分 类 号：TQ127.2]