期刊文章详细信息
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]暨南大学电子工程系,广州510632 [2]广州市电信局,广州510600 [3]华南师范大学量子电子学研究所,广州510632
年 份:2001
卷 号:31
期 号:3
起止页码:180-183
语 种:中文
收录情况:BDHX、BDHX2000、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要:计算分析了光纤布拉格 (Bragg)光栅中折射率变化分布 ,折射率变化直流分量对反射旁瓣 (Sidelobes)的影响 ;采用二次曝光技术 ,用高斯光束和均匀相位模板刻制出反射旁瓣受到有效抑制的光纤布拉格光栅 。
关 键 词:光纤布拉格光栅 反射旁瓣抑制 反射谱
分 类 号:TN253]
参考文献:
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