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期刊文章详细信息

掺杂氧化钨薄膜的电致变色特性    

Electrochromic properties of doped Tungsten Oxide thin films

  

文献类型:期刊文章

作  者:李建军[1] 陈国平[1] 刘云峰[1] 黄蕙芬[1]

机构地区:[1]东南大学薄膜研究所,江苏南京210096

出  处:《真空》

年  份:2001

卷  号:38

期  号:2

起止页码:33-35

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2000、CAS、ZGKJHX、核心刊

摘  要:掺杂氧化钼对氧化钨薄膜的电致变色特性有一定的影响。本文介绍了用电子束蒸发制备不同 Mo O3掺杂比例的氧化钨膜。对其着色态与漂白态的光学特性以及循环伏安特性进行了实验研究。通过对循环伏安曲线的分析 。

关 键 词:电致变色 氧化钨薄膜  氧化钼掺杂  电致变色材料 循环伏安法 电子束蒸发

分 类 号:TB34[材料类]

参考文献:

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耦合文献:

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引证文献:

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同被引文献:

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