期刊文章详细信息
新世纪光刻技术及光刻设备的发展趋势
Trend of Photolithography Technology and Its Equipment in 21st Century
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]中国华晶电子集团公司技术支援中心,江苏无锡214061
年 份：2001
卷 号：29
期 号：2
起止页码：8-17
语 种：中文
收录情况：普通刊
摘 要：本文主要阐述了光刻技术的发展极限及 193nm、 157nm光学光刻技术和电子束投影光刻 (SCALPEL)、X -射线光刻 (XRL)离子投影光刻 (IPL)等技术的发展趋势。并详细介绍了国际著名品牌的光刻机以及即将推出的新一代光刻机。对国内光刻设备的发展现状作了简要概述。
关 键 词：光刻技术 光刻设备 电子束投影光刻 光学光刻
分 类 号：TN305.7]
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