文献类型：期刊文章

作　　者：沈中伟[1] 袁巨龙[1] 刘盛辉[2] 邢彤[1] 河西敏雄[3] 小林昭[4]

机构地区：[1]浙江工业大学职教学院,浙江杭州310032 [2]浙江工业大学化工学院,浙江杭州310032 [3]埼玉大学工学部 [4]HiMEP研究所

出　　处：《浙江工业大学学报》

基　　金：国家自然科学基金项目! (5 910 5 0 37) ;浙江省自然科学基金项目 !(5 980 95 ;2 990 0 9)

年　　份：2001

卷　　号：29

期　　号：1

起止页码：20-25

语　　种：中文

收录情况：AJ、CAS、INSPEC、JST、RCCSE、ZGKJHX、普通刊

摘　　要：修正环型抛光机用于超精密平面抛光 ,并对沥青抛光进行了运动学分析。基于得到的方程式 ,发现在相同条件下 ,计算出的抛光量和平面度与 60mm直径的玻璃圆板工件的实验值非常一致。提出了用于改善抛光平行度的偏心分布载荷技术。获得了 1 A～ 2 A表面粗糙度及小于 2

关 键 词：电子元件 晶体 运动学分析 偏心载荷 超精密平面抛光  

分 类 号：TN05]