期刊文章详细信息
离子渗氮自动控制系统的设计
Design of Automatic Control System for Plasma Nitriding
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]中南民族学院电子工程系
基 金：国家民委科研基金资助项目!( MZY990 0 1)
年 份：2001
卷 号：20
期 号：1
起止页码：5-9
语 种：中文
收录情况：普通刊
摘 要：给出了基于单片机的等离子体渗氮工艺自动控制系统的设计方案 ,该系统由 PIC单片机、AI智能仪表及脉冲电源等组成 ,对该系统组成部分的功能和监控程序设计作了详细地说明 ,该系统实现了对等离子体渗氮工艺的自动控制 。
关 键 词：监控系统 PIC单片机 离子渗氮 自动控制系统 工艺控制 设计
分 类 号：TG156.82] TP273.02]
参考文献：
正在载入数据...
二级参考文献：
正在载入数据...
耦合文献：
正在载入数据...
引证文献：
正在载入数据...
二级引证文献：
正在载入数据...
同被引文献：
正在载入数据...
