文献类型：期刊文章

作　　者：王文婷[1,2] 王德苗[1,2,3] 郑小婵[1]

机构地区：[1]浙江大学信息科学与电子工程系,杭州310027 [2]浙江大学昆山创新中心先进电子专用设备研发中心,昆山215300 [3]苏州求是真空电子有限公司,昆山215300

出　　处：《真空科学与技术学报》

年　　份：2014

卷　　号：34

期　　号：6

起止页码：585-589

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2011、CAS、CSCD、CSCD_E2013_2014、EI(收录号：20142917947383)、JST、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：利用溅射法制备半导体陶瓷表面的电极有着广阔的产业化前景,但关于溅射膜电极与陶瓷表面的界面机制研究尚鲜有报道。本文采用磁控溅射法在ZnO压敏陶瓷表面制备了Cr+Cu电极,通过X射线光电子能谱等技术研究分析了Cr/ZnO的界面反应及界面成分。研究结果表明:常温下Cr膜在氧化锌表面的沉积模式为混态生长模式,在Cr的初始沉积阶段,Cr价层电子与氧化锌表面存在电子转移作用,有氧化态的Cr生成;随着覆盖度的增加,电子转移逐渐减弱,最后Cr完全呈现为金属态的中性吸附。该界面反应生成的化合物对溅射膜电极的欧姆接触,附着力等性能有重要作用,而且能有效阻止电极元素Cu或Ag的纵向扩散。

关 键 词：溅射膜Cr+Cu电极  Cr/ZnO界面作用  ZNO压敏陶瓷 欧姆接触 附着力  

分 类 号：O484.1]