文献类型：期刊文章

作　　者：马海林[1] 苏庆[2]

机构地区：[1]兰州交通大学,国家绿色镀膜技术与装备工程技术研究中心,兰州730070 [2]兰州大学,物理科学与技术学院,兰州730000

出　　处：《物理学报》

基　　金：兰州交通大学青年科学基金(批准号:2011037)资助的课题~~

年　　份：2014

卷　　号：63

期　　号：11

起止页码：230-234

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2011、CAS、CSCD、CSCD2013_2014、EI(收录号：20142517852799)、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCI-EXPANDED(收录号：WOS:000338747800031)、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、ZMATH、核心刊

摘　　要：在不同氧分压η(η=O2/[Ar+O2])实验条件下,通过直流反应溅射制备了氧化镓薄膜,然后在真空环境下进行高温再结晶热处理.用紫外-可见分光光度计(UV-Vis)研究了氧分压η对光学带隙Eg的影响.X射线衍射(XRD)和共聚焦拉曼散射光谱(Raman Scattering)分析显示:经900℃高温热处理后,薄膜呈结晶β相氧化镓,且晶粒尺寸随着氧分压的逐渐增加而变大.室温下由UV-Vis测试薄膜透过率并利用Tauc公式计算得到样品的光学带隙Eg在4.68—4.85 eV之间,且随氧分压η的逐渐增加而变大.

关 键 词：氧化镓 光学带隙 磁控溅射

分 类 号：O484.41]