文献类型：期刊文章

作　　者：凌浩[1] 施维[1] 孙剑[1] 应质峰[1] 吴嘉达[1] 李富铭[1] 王康林[2] 丁训民[2]

机构地区：[1]复旦大学三束材料改性国家重点实验室,上海200433 [2]复旦大学应用表面物理国家重点实验室,上海200433

出　　处：《中国激光》

基　　金：国家自然科学基金! (6 98780 0 4);上海市科技发展基金! (98JC140 11)资助项目

年　　份：2001

卷　　号：28

期　　号：3

起止页码：272-274

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2000、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号：2001556802817)、IC、INSPEC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：介绍了用脉冲激光沉积 (PLD)方法制备AlN薄膜的工作 ,在Si(10 0 )衬底上得到了光滑平整、透明度高的AlN薄膜 ,由实验结果拟合得到能隙宽度为 5 7eV。考察了衬底温度和退火温度的影响。

关 键 词：脉冲激光沉积 氮化铝 激光烧蚀 薄膜  

分 类 号：TN304.055]