文献类型：期刊文章

作　　者：刘冠昆[1] 王小晗[1] 何山[2]

机构地区：[1]中山大学化学与化学工程学院,广州510275 [2]中国电子产品可靠性与环境试验研究所,广州510610

出　　处：《材料保护》

基　　金：广东省自然科学基金资助项目! (96 0 0 0 2 )

年　　份：2001

卷　　号：34

期　　号：2

起止页码：19-20

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2000、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、JST、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：采用脉冲电沉积技术 ,在室温下的含YCl3和NiCl2 的二甲基亚砜 (DMSO)溶液中 ,沉积出含稀土元素Y的Y Ni合金薄膜。研究了影响镀层性能的工艺参数 ,包括脉冲频率、占空比、电流效率及Y在镀层中的含量与电流密度的关系 ,用X射线分析仪确定镀层的物相组成 ,用扫描电镜及能谱仪分析了合金镀层的组成及形态。发现 ,随着电流密度增大 ,合金镀层中的稀土Y含量增高。Y Ni合金薄膜具有非晶态结构 。

关 键 词：二甲基亚砜  脉冲电沉积 Y-Ni合金膜  非水体系 工艺  合金镀层  钇镍合金  

分 类 号：TG174.44]