期刊文章详细信息
高压静电场和氮离子复合处理对链霉菌的影响
Compound Processing Effects of HVEF and Low Energy N^+ Ion on Streptomyces Aureofaciens
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]内蒙古自治区离子束生物工程重点实验室,内蒙古呼和浩特010021 [2]内蒙古医科大学计算机信息学院物理教研室,内蒙古呼和浩特010050 [3]内蒙古大学物理科学与技术学院,内蒙古呼和浩特010021
基 金:国家自然科学基金项目(51267013)
年 份:2014
卷 号:28
期 号:4
起止页码:702-707
语 种:中文
收录情况:BDHX、BDHX2011、CAS、CSCD、CSCD2013_2014、JST、RCCSE、ZGKJHX、核心刊
摘 要:分析了不同剂量氮离子(N+)和高压静电场(HVEF)处理金色链霉菌的存活率和突变率关系,进而确定了最佳处理参数:N+能量10kev·cm-1,注入剂量1.82×1015N+ions·cm-2、2.86×1015N+ions·cm-2,电场剂量(时间、场强)20s×0.5kv·cm-2、60s×2kv·cm-2。用上述优选的HVEF和N+剂量对金色链霉菌进行复合处理,发现在部分复合处理条件下,菌株正变率比使用等剂量N+单因子处理的正变率要高。通过对出发菌株SL2、N+注入选育的高产菌株M226以及N+和HVEF复合处理获得的高产菌株D1114的3种保护酶POD、SOD、CAT的活性进行检测,发现D1114菌株3种酶的活性均最高,其次是M226,说明这3种酶在诱变处理中扮演着重要角色,并且HVEF和低能N+复合处理的效果较N+单一诱变效果要好。
关 键 词:高压静电场 氮离子 链霉菌 复合处理
分 类 号:Q937]
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