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期刊文章详细信息

化学镀镍溶液中络合剂对镀速影响的研究    

Effect of complexing agent on plating rate in electroless nickel solution

  

文献类型:期刊文章

作  者:蔡晓兰[1] 黄鑫[1] 刘志坚[1]

机构地区:[1]昆明理工大学材料与冶金工程学院冶金系,云南昆明650093

出  处:《吉林化工学院学报》

基  金:云南省"省院合作"项目

年  份:2000

卷  号:17

期  号:4

起止页码:21-23

语  种:中文

收录情况:CAS、RCCSE、普通刊

摘  要:本文研究了化学镀Ni P合金镀液中络合剂对沉积速度的影响 ,结果表明不同络合剂对镀速的影响各不相同 ,本实验研究出的 3 L复合络合剂 ,它的加入使镀液稳定而镀速较高 .

关 键 词:化学镀 络合剂 沉积速度  镍磷合金 镀液

分 类 号:TQ153.12]

参考文献:

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引证文献:

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同被引文献:

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