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期刊文章详细信息

等离子体增强原子层沉积系统及其应用研究  ( EI收录)  

Lab-Built Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition Reactor and Its Applications

  

文献类型:期刊文章

作  者:万军[1,2,3] 饶志鹏[1,3] 方攸同[2] 陈波[1,3] 李超波[1,3] 夏洋[1,3]

机构地区:[1]浙江大学电气工程学院,杭州310027 [2]中国科学院微电子研究所微电子集成电路重点实验室,北京100029 [3]嘉兴科民电子设备技术有限公司,嘉兴314006

出  处:《真空科学与技术学报》

基  金:极大规模集成电路制造装备及成套工艺项目(2009ZX02039);中国科学院科研装备研制项目(YZ200755);中国博士后基金资助项目(2011M500996);中国博士后基金特别资助项目(2012T50513)

年  份:2014

卷  号:34

期  号:2

起止页码:192-196

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2011、CAS、CSCD、CSCD_E2013_2014、EI(收录号:20141217482093)、JST、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘  要:介绍了自行设计的等离子体增强原子层沉积(PEALD)系统及其原位制备氮掺杂纳米TiO2可见光催化剂的实验结果。PEALD系统主要由远程脉冲感应耦合等离子体发生器、真空反应腔室、真空系统、前驱体输运系统、控制系统等部分组成。沉积过程中前驱体的交替、等离子体的产生、样品台温度、载气流量、沉积周期等参数都可以预先设定并由控制系统自动执行。在研制的PEALD系统上首次开展原位氮掺杂纳米TiO2光催化剂的制备,高分辨透射电镜结果表明制备的氮掺杂TiO2薄膜为非晶态结构,薄膜厚度为3 nm,生长速率为0.05 nm/cycle;X射线光电子能谱结果表明N元素掺入到了制备的TiO2薄膜,并取代了TiO2薄膜中的O元素;紫外-可见光谱表明制备的氮掺杂TiO2薄膜对可见光的吸收率明显增强。

关 键 词:等离子体增强原子层沉积  原位掺杂 氮掺杂TiO2  结构表征  

分 类 号:O484.4]

参考文献:

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耦合文献:

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引证文献:

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同被引文献:

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