期刊文章详细信息
镍掺杂SiO2膜的制备及CH4/CO2气体分离性能 ( EI收录)
Preparation of Nickel-Doped Silica Films and Gas Separation Performance for CH_4/CO_2
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]沈阳化工大学辽宁省化工分离技术重点实验室,沈阳110142
基 金:国家自然科学基金(21076126);辽宁省自然科学基金(2013020080)资助项目
年 份:2014
卷 号:42
期 号:3
起止页码:416-422
语 种:中文
收录情况:BDHX、BDHX2011、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2013_2014、EI(收录号:20141617587041)、IC、INSPEC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要:以正硅酸乙酯(TEOS)为前驱体,六水合硝酸镍(Ni(NO3)2·6H2O)为镍源,采用溶胶--凝胶法制备镍掺杂SiO2膜。研究了水用量及镍含量对镍掺杂SiO2膜的结构及形貌的影响,并对其进行CH4、CO2气体渗透性能测试。结果表明:水酯比为5.5时,制备的10%Ni掺杂SiO2膜具有良好的微孔结构,且孔径约为1.16nm,孔隙率为64.9%。一部分Ni元素以Ni和NiO晶体形式填充于SiO2孔道内,另一部分以Si—O—Ni形式进入SiO2骨架。Ni掺杂SiO2膜在84h内能够保持良好的气体渗透性能,表现出比纯SiO2膜更好的水热稳定性。CH4和CO2的气体渗透通量分别为1.56×10--7和0.64×10--7 mol/(m2·s·Pa),CH4/CO2气体分离因子达到2.43。
关 键 词:二氧化硅膜 镍掺杂 水热稳定性 气体分离 孔结构
分 类 号:O613.72]
参考文献:
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