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期刊文章详细信息

镍掺杂SiO2膜的制备及CH4/CO2气体分离性能  ( EI收录)  

Preparation of Nickel-Doped Silica Films and Gas Separation Performance for CH_4/CO_2

  

文献类型:期刊文章

作  者:李文秀[1] 李丹丹[1] 郑立娇[1] 范俊刚[1] 张志刚[1]

机构地区:[1]沈阳化工大学辽宁省化工分离技术重点实验室,沈阳110142

出  处:《硅酸盐学报》

基  金:国家自然科学基金(21076126);辽宁省自然科学基金(2013020080)资助项目

年  份:2014

卷  号:42

期  号:3

起止页码:416-422

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2011、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2013_2014、EI(收录号:20141617587041)、IC、INSPEC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘  要:以正硅酸乙酯(TEOS)为前驱体,六水合硝酸镍(Ni(NO3)2·6H2O)为镍源,采用溶胶--凝胶法制备镍掺杂SiO2膜。研究了水用量及镍含量对镍掺杂SiO2膜的结构及形貌的影响,并对其进行CH4、CO2气体渗透性能测试。结果表明:水酯比为5.5时,制备的10%Ni掺杂SiO2膜具有良好的微孔结构,且孔径约为1.16nm,孔隙率为64.9%。一部分Ni元素以Ni和NiO晶体形式填充于SiO2孔道内,另一部分以Si—O—Ni形式进入SiO2骨架。Ni掺杂SiO2膜在84h内能够保持良好的气体渗透性能,表现出比纯SiO2膜更好的水热稳定性。CH4和CO2的气体渗透通量分别为1.56×10--7和0.64×10--7 mol/(m2·s·Pa),CH4/CO2气体分离因子达到2.43。

关 键 词:二氧化硅膜 镍掺杂 水热稳定性 气体分离 孔结构  

分 类 号:O613.72]

参考文献:

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同被引文献:

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