文献类型：期刊文章

作　　者：魏永强[1,2] 张艳霞[3] 文振华[1,2] 蒋志强[1,2] 冯宪章[1,2]

机构地区：[1]郑州航空工业管理学院机电工程学院,郑州450015 [2]航空制造及装备河南省高校工程技术研究中心,郑州450015 [3]郑州信息科技职业学院机电工程系,郑州450015

出　　处：《表面技术》

基　　金：国家自然科学基金(51105344);航空科学基金(2012ZE55011);河南省教育厅科学技术研究重点项目(13A430397;14A140026);河南省科技厅基础与前沿技术研究计划(132300410241);河南省高校科技创新团队支持计划(2012IRTSTHN014);郑州航院科研创新团队建设项目(2014TD01)~~

年　　份：2014

卷　　号：43

期　　号：1

起止页码：1-6

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2011、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD_E2013_2014、EI、JST、RCCSE、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：目的研究脉冲偏压占空比对TiN/TiAlN多层薄膜微观结构和硬度的影响规律。方法利用脉冲偏压电弧离子镀的方法,改变脉冲偏压占空比,在M2高速钢表面制备5种TiN/TiAlN多层薄膜,对比研究了薄膜的微观结构、元素成分、相结构和硬度的变化规律。结果 TiN/TiAlN多层薄膜表面出现了电弧离子镀制备薄膜的典型生长形貌,随着脉冲偏压占空比的增加,薄膜表面的大颗粒数目明显减少。此外,脉冲偏压占空比的增加还引起多层薄膜中Al/Ti原子比的降低。结论 TiN/TiAlN多层薄膜主要以(111)晶面择优取向生长,此外还含有(311),(222)和(200)晶相结构。5种多层薄膜的纳米硬度均在33GPa以上,当脉冲偏压占空比为20%时,可实现超硬薄膜的制备。

关 键 词：TIN TIALN 电弧离子镀 纳米硬度  微观结构 脉冲偏压占空比  

分 类 号：TG174.444]