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NiO在γ-Al_2O_3及 TiO_2/γ-Al_2O_3载体上的表面存在状态
Surface state of NiO supported onγ-Al2O3 and TiO2/γ-Al2O3 supports
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]南京大学化学化工学院亚微观固态化学研究所,南京210093
基 金:国家博士点专项基金资助项目!( No.98028434)。
年 份:2001
卷 号:17
期 号:1
起止页码:43-49
语 种:中文
收录情况:BDHX、BDHX2000、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、IC、JST、RCCSE、RSC、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊
摘 要:本文采用 LRS, XRD, UV-DRS, TPR考查了γ-Al2O3上 TiO2的分散容量,分散态 Ti4+离子的配位环境; NiO在经 TiO2改性后的γ-Al2O3载体上的分散容量。结果表明:( 1) TiO2在γ-Al2O3表面的分散容量约为 0.62 mmol/100m2γ-Al2O3,当 TiO2含量低于该分散容量时 Ti4+在γ-Al2O3载体表面以嵌入形式呈离子态分布;而含量高于分散容量时还有结晶态的 TiO2出现。( 2) NiO在 TiO2/γ-Al2O3载体表面的分散容量约为 1.1 mmol/100m2γ-Al2O3,比之在γ-Al2O3载体表面的分散容量 (1.5mmol/100m2γ-Al2O3)要低,这是由于γ-Al2O3表面上部分空位被 Ti4+离子占据。用表面相互作用的“嵌入模型” (Incorporation Model)讨论了这些结果。
关 键 词:氧化镍 氧化钛 Γ-氧化铝 催化活性 负载型催化剂 表面状态
分 类 号:O643.36]
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