文献类型：期刊文章

作　　者：宋贵宏[1,2] 宫骏[1] 孙超[1] 黄荣芳[1] 闻立时[1]

机构地区：[1]中国科学院金属研究所,沈阳110015 [2]沈阳工业大学材料工程系

出　　处：《人工晶体学报》

基　　金：国家自然科学基金85重大攻关项目59292800;辽宁省科委资助项目

年　　份：2000

卷　　号：29

期　　号：4

起止页码：390-393

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX1996、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI、JST、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：本文测量HFCVD生长的金刚石膜的红外透射率。结果表明 ,膜中的缺陷、杂质和非金刚石相在透射谱中产生吸收带 ;膜表面的粗糙度和组织形貌对透射率有较大的影响。形核表面面对红外光源时 ,由于减少表面散射而透射率较高 ;定向或高取向膜的透射率高于混杂取向膜的透射率 ,表明晶格取向和晶界分布影响膜的透射性能。

关 键 词：金刚石膜 热丝化学气相沉积 红外透射率  晶体形貌

分 类 号：O614.71]