文献类型：期刊文章

作　　者：张玉芹[1] 邓小玲[1] 刘行冰[1] 符春林[1] 成计平[1]

机构地区：[1]重庆科技学院冶金与材料工程学院,重庆401331

出　　处：《硅酸盐通报》

基　　金：国家自然科学基金资助项目(51102288);重庆市自然科学基金资助项目(2010BB4286;2011BA4027);重庆市教委科学技术研究资助项目(KJ121408);重庆科技学院校内基金资助项目(CK2010Z07)

年　　份：2013

卷　　号：32

期　　号：12

起止页码：2544-2549

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2011、CAS、CSCD、CSCD2013_2014、JST、RCCSE、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：磁控溅射技术在薄膜制备领域有着广泛的应用。本文在介绍磁控溅射法制备薄膜材料的基本原理和流程基础之上,详细分析了溅射工艺参数(溅射功率、温度、溅射气压、氧分压)对BST薄膜性能的影响,并提出了研究中需要解决的一些问题。

关 键 词：磁控溅射 BST薄膜 工艺参数 性能  

分 类 号：TQ177]