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期刊文章详细信息

高纯钼溅射靶材的研究现状及发展趋势    

Research Status and Development Trend of High Purity Molybdenum Sputtering Target Material

  

文献类型:期刊文章

作  者:杨帆[1] 王快社[1] 胡平[1] 何欢承[1] 康轩齐[1] 王华[2] 刘仁智[1,3]

机构地区:[1]西安建筑科技大学冶金学院,陕西西安710055 [2]西安电炉研究所有限公司,陕西西安710061 [3]金堆城钼业股份有限公司,陕西西安710068

出  处:《热加工工艺》

基  金:陕西省重大科技创新项目(S2011ZK1087);陕西省教育厅专项项目(12JK0431);西安建筑科技大学人才科技基金(RC1116)

年  份:2013

卷  号:42

期  号:24

起止页码:10-12

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2011、CSCD、CSCD2013_2014、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘  要:对高纯钼溅射靶材的国内外研究现状进行了介绍,对高纯钼溅射靶材急需解决的几个问题和发展趋势做了探讨,并且对其今后的研究和发展提出了建设性意见。

关 键 词:溅射靶材 现状  发展趋势  

分 类 号:TG146.412[材料类]

参考文献:

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二级参考文献:

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耦合文献:

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引证文献:

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二级引证文献:

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同被引文献:

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