期刊文章详细信息
高纯钼溅射靶材的研究现状及发展趋势
Research Status and Development Trend of High Purity Molybdenum Sputtering Target Material
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]西安建筑科技大学冶金学院,陕西西安710055 [2]西安电炉研究所有限公司,陕西西安710061 [3]金堆城钼业股份有限公司,陕西西安710068
基 金:陕西省重大科技创新项目(S2011ZK1087);陕西省教育厅专项项目(12JK0431);西安建筑科技大学人才科技基金(RC1116)
年 份:2013
卷 号:42
期 号:24
起止页码:10-12
语 种:中文
收录情况:BDHX、BDHX2011、CSCD、CSCD2013_2014、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要:对高纯钼溅射靶材的国内外研究现状进行了介绍,对高纯钼溅射靶材急需解决的几个问题和发展趋势做了探讨,并且对其今后的研究和发展提出了建设性意见。
关 键 词:钼 溅射靶材 现状 发展趋势
分 类 号:TG146.412[材料类]
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