文献类型：期刊文章

作　　者：傅泽禄[1] 顾大振[1] 刘雷[1] 赵恩海[1] 康琳[1] 冯一军[1] 吉争鸣[1] 王晓书[2] 尹晓波[3] 杨森祖[1]

机构地区：[1]南京大学电子科学与工程系,微结构科学技术高等研究中心,南京210093 [2]南京大学现代分析中心,南京210093 [3]南京大学物理系,微结构科学技术高等研究中心,南京210093

出　　处：《低温物理学报》

基　　金：国家重点基础研究专项!(G19990 6 46 );国家科委863(86 3 CD0 70 2 0 2 )项目

年　　份：2000

卷　　号：22

期　　号：6

起止页码：449-453

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX1996、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、INSPEC、JST、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：本文利用CF4 气体 ,对YBCO薄膜表面进行可控的rf等离子体氟化处理 .AFM与XPS的分析结果表明 :适当的氟化所起的作用主要为化学反应作用 .氟化可造成Y( 3d)与O( 1s)诸元素的本征峰相对强度减少 ,甚至消失 ;对Ba( 3d) ,Ba( 4d)和其它元素也有影响 .本文的研究为利用等离子体氟化YBCO膜形成弱化势垒层提供了初步结果 .

关 键 词：YBCO 超导薄膜 等离子体氟化  超导电性

分 类 号：O511]