文献类型：期刊文章

作　　者：石强[1,2] 桑胜波[1,2] 张文栋[1,2] 李朋伟[1,2] 胡杰[1,2] 李刚[1,2]

机构地区：[1]太原理工大学微纳系统研究中心,山西太原030024 [2]太原理工大学新型传感器与智能控制教育部和山西省重点实验室,山西太原030024

出　　处：《红外与激光工程》

基　　金：国家自然科学基金重点支持项目(91123036);山西省回国留学人员科技活动项目择优资助项目(2011x10)

年　　份：2013

卷　　号：42

期　　号：11

起止页码：3040-3046

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2011、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2013_2014、EI(收录号：20140317209481)、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：随着半导体工业的发展,集成光电器件的特征尺寸越来越小,纳米光波导表面光滑技术将面临新的挑战。降低纳米光波导表面粗糙度,制造超低损耗纳米光波导,实现其高效片间光互连与片内光耦合,是集成光电子器件,特别是高灵敏微陀螺、生化传感器、光通讯等器件发展的关键。主要分析了光波导表面粗糙度与传播损耗的关系,着重阐述纳米光波导表面光滑工艺方法,包括热氧化法、氢退火法及激光束法的研究现状及最新进展,总结了各类工艺的技术难点与发展前景,并展望其在微机电、光集成方面应用前景。

关 键 词：光滑工艺  纳米光波导  表面粗糙度

分 类 号：TN305.2]