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期刊文章详细信息

热等静压对钨基体表面等离子喷涂钽层组织及性能的影响    

Effect of Hot Isostatic Pressing on Microstructure and Mechanical Properties of Plasma Sprayed Tantalum Coating on Tungsten Substrate

  

文献类型:期刊文章

作  者:魏少红[1] 纪全[1] 张锐强[1] 蒋驰[2]

机构地区:[1]中国科学院高能物理研究所,北京100049 [2]四川材料与工艺研究所,四川绵阳621000

出  处:《材料保护》

年  份:2013

卷  号:46

期  号:11

起止页码:6-8

语  种:中文

收录情况:AJ、BDHX、BDHX2011、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2013_2014、JST、ZGKJHX、核心刊

摘  要:目前,国内鲜有钨块包覆钽材的报道。于氩气气氛保护下在钨材表面等离子喷涂钽层,然后对其进行热等静压处理。采用扫描电镜观察涂层热等静压前后微观形貌,采用能谱仪测试其成分,采用X射线衍射仪测试其相结构,采用力学试验测试其力学性能。结果表明:等离子喷涂钽层与钨材界面处含有一定氧,且其分布不均匀,钽涂层由Ta和Ta6O组成;等离子喷涂钽层呈层状结构,经热等静压处理后,涂层内孔隙减小,致密度从91.2%提高到98.8%,涂层抗拉结合强度由19.4 MPa提高到22.5 MPa,硬度由517.8 HV提高到626.6 HV。

关 键 词:等离子喷涂 热等静压 钽涂层  钨基体  致密度 力学性能  

分 类 号:TG174.442]

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同被引文献:

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