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热等静压对钨基体表面等离子喷涂钽层组织及性能的影响
Effect of Hot Isostatic Pressing on Microstructure and Mechanical Properties of Plasma Sprayed Tantalum Coating on Tungsten Substrate
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]中国科学院高能物理研究所,北京100049 [2]四川材料与工艺研究所,四川绵阳621000
年 份:2013
卷 号:46
期 号:11
起止页码:6-8
语 种:中文
收录情况:AJ、BDHX、BDHX2011、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2013_2014、JST、ZGKJHX、核心刊
摘 要:目前,国内鲜有钨块包覆钽材的报道。于氩气气氛保护下在钨材表面等离子喷涂钽层,然后对其进行热等静压处理。采用扫描电镜观察涂层热等静压前后微观形貌,采用能谱仪测试其成分,采用X射线衍射仪测试其相结构,采用力学试验测试其力学性能。结果表明:等离子喷涂钽层与钨材界面处含有一定氧,且其分布不均匀,钽涂层由Ta和Ta6O组成;等离子喷涂钽层呈层状结构,经热等静压处理后,涂层内孔隙减小,致密度从91.2%提高到98.8%,涂层抗拉结合强度由19.4 MPa提高到22.5 MPa,硬度由517.8 HV提高到626.6 HV。
关 键 词:等离子喷涂 热等静压 钽涂层 钨基体 致密度 力学性能
分 类 号:TG174.442]
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