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期刊文章详细信息

纳米线多型异质结碳化硅室温单电子晶体管研究    

Study of Nanowire Silicon Carbide Polytype Heterostructure Single Electron Transistor at Room Temperature

  

文献类型:期刊文章

作  者:张洪涛[1,2] 詹云峰[1,2] Georg Bastian[3] Uli Lemmer[4]

机构地区:[1]湖北工业大学电气与电子工程学院通信工程系,武汉430068 [2]湖北工业大学电气与电子工程学院纳米电子技术与微系统实验室,武汉430068 [3]Hochschule-Rhein-Waal [4]Universitat Karlsruhe(TH),Lichttechnisches Institut

出  处:《固体电子学研究与进展》

基  金:德国Karlsruhe University;Lichttechnisches Institut 2003-2004年度对这项工作的资助

年  份:2013

卷  号:33

期  号:5

起止页码:405-409

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2011、CSCD、CSCD_E2013_2014、核心刊

摘  要:采用碳化硅4H/6H多型纳米线制备单电子晶体管,在室温下观察到库仑阻塞效应和负微分电阻,I-V曲线呈现典型的库仑台阶,其台阶为周期性的,这些周期性小台阶,又呈现非周期的嵌套结构。单根纳米线碳化硅由4H/6H多型交替生长构成,它们嵌合构成竹节状生长,碳化硅多型结构中4H多型晶体构成双势垒,其直径为10~80nm,长度约50nm。而联结4H多型的6H多型晶体部分,长度约20nm,且直径较细(约10~35nm),被认为是库仑孤岛。

关 键 词:室温单电子晶体管  纳米线 碳化硅 多型异质结构  库仑阻塞效应  

分 类 号:TN304.24]

参考文献:

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耦合文献:

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引证文献:

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同被引文献:

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