期刊文章详细信息
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]浙江省轻工业学校,杭州310015
年 份:2000
卷 号:31
期 号:2
起止页码:31-33
语 种:中文
收录情况:CAS、普通刊
摘 要:以锐钛型TiO2 半导体为催化剂 ,利用高压汞灯作光源 ,研究了水溶液中次甲基蓝染料的半导体光催化降解时的各种影响因素。研究表明 ,次甲基蓝在 pH为3。3左右时降解较为适宜 ,在光照30min ,TiO2 用量5.4ml/ml,MB初始浓度为16mg/l时 ,次甲基蓝降解的效果较好 ,降解率达94.7 %。
关 键 词:次甲基蓝 二氧化钛 光催化氧化 染料 废水处理
分 类 号:O644]
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