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期刊文章详细信息

直流溅射法制备纳米金的工艺及形成机制    

Process and formation mechanism of nano-gold prepared by DC sputtering

  

文献类型:期刊文章

作  者:窦娜娜[1] 王涵[1] 张蓓[2] 宋西平[1]

机构地区:[1]北京科技大学新金属国家重点实验室,北京100083 [2]北京科技大学数理学院物理系,北京100083

出  处:《金属热处理》

年  份:2013

卷  号:38

期  号:8

起止页码:14-20

语  种:中文

收录情况:AJ、BDHX、BDHX2011、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2013_2014、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘  要:利用直流溅射仪制备了纳米金薄膜,并通过随后的退火处理得到了纳米金颗粒,研究了不同衬底、溅射时间、退火温度及时间对纳米金颗粒形成的影响规律。结果表明,衬底对纳米金的形成有显著的影响,形核质点多的载玻片比单晶硅片更容易形成细小的纳米金颗粒;溅射时间越短,退火温度愈高,纳米金薄膜愈容易球化;在溅射30 s、400℃保温60 min的条件下得到了直径为8~12 nm的金颗粒。根据金的表面能、表面张力以及金原子的扩散等因素讨论了纳米金颗粒的形成机制。

关 键 词:溅射工艺  纳米金 形成机制  

分 类 号:TG111]

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同被引文献:

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