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等离子体化学气相沉积TiN涂层的后热处理技术研究
Studies of the Inverse Treatment of PCVD TiN Coatings
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]青岛化工学院等离子体表面技术研究所,青岛266042
年 份：2000
卷 号：20
期 号：5
起止页码：366-369
语 种：中文
收录情况：BDHX、BDHX1996、CSCD、CSCD_E2011_2012、核心刊
摘 要：为了提高等离子体化学气相沉积 (PCVD)涂层的质量 ,改善基体材料的机械性能 ,更好地发挥PCVD硬质涂层的使用效果 ,采用了先沉积后热处理的新工艺。结果表明 ,热处理温度对PCVD TiN涂层的化学成分、显微结构和性能有较大的影响。随着处理温度的提高 ,涂层的结晶度得到大幅度的改善 ,涂层内的杂质氯含量降低 ,涂层的 (2 0 0 )晶面距减小 ,但在 90 0℃时 ,PCVD
关 键 词：TIN涂层 后热处理 PCVD 金属表面强化
分 类 号：TG174.442]
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