文献类型：期刊文章

作　　者：闫勇[1] 李莎莎[1] 欧玉峰[1] 晏传鹏[1] 刘连[1] 张勇[1] 赵勇[1,2] 余洲[1]

机构地区：[1]西南交通大学超导与新能源研究开发中心磁浮技术与磁浮列车教育部重点实验室,成都610031 [2]新南威尔士大学材料科学与工程学院

出　　处：《真空科学与技术学报》

基　　金：国家磁约束核聚变能研究专项资助项目(2011GB112001);国际合作项目(2013DFA51050);国家自然科学基金资助项目(51271155);中央高校基本科研业务费资助项目(SWJTU11ZT16;SWJTU11ZT31;2682013CX004);四川省科技计划资助项目(2011JY0031;2011JY0130)

年　　份：2013

卷　　号：33

期　　号：6

起止页码：610-614

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2011、CAS、CSCD、CSCD_E2013_2014、EI(收录号：20132916517231)、JST、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：研究了工作气压对磁控溅射法制备CIGS薄膜的影响,采用X射线衍射,扫描电镜,X射线萤光光谱和X射线能量色散谱分析了膜层的组织和成分。研究发现,工作气压升高,薄膜沉积速率降低。当工作气压低于0.2 Pa时,薄膜致密均一;高于0.2 Pa表面出现Cu2-xSe相,并随气压升高在膜表面的覆盖面积增大。对气压影响薄膜表面形貌的机理采用成膜动力学理论进行了讨论。

关 键 词：磁控溅射CIGS薄膜  工作气压 表面形貌

分 类 号：O484]